磁控濺射靶材
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有道可提供主流濺射設(shè)備中所使用的各種材質(zhì)靶材,同時(shí)具備靶材逆向開發(fā)能力協(xié)助客戶進(jìn)行國(guó)產(chǎn)化替代。
無(wú)論是平面、旋轉(zhuǎn)或異形靶材,極高的純度及均勻的微觀組織保證了高質(zhì)量濺射薄膜。

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有道可提供主流濺射設(shè)備中所使用的各種材質(zhì)靶材,同時(shí)具備靶材逆向開發(fā)能力協(xié)助客戶進(jìn)行國(guó)產(chǎn)化替代。
無(wú)論是平面、旋轉(zhuǎn)或異形靶材,極高的純度及均勻的微觀組織保證了高質(zhì)量濺射薄膜。
